天游线路检测中心 VACUUM2023 Vacuum Exhibition

We will be exhibiting electron guns and power supplies, bombarded evaporation sources, backscattered electron traps, and plasma sources that are ideal for forming high-performance optical thin films at the VACUUM 2023 Vacuum Exhibition
皆様のご来场を心よりお待ちしております。

日期/地点

• 路线:
  2023年11月29日(水) ～ 12月1日(金) 10:00 ～ 17:00

• 地点：
  東京ビッグサイト 西2ホール
  〒135-0063 東京都江東区有明3-11-1　地図

• Booth number:
  V-17

展览内容

bonbado蒸着源BS-60610BDS

This is a vacuum evaporation source that uses electron beam bombardment indirect heating method
低ダメージ、低欠陥、低吸收、厚膜、ハireートの成膜に适しています。
従来机种（BS-60310BDS）の特长を継承し、ライナー大容量化とハireート化を実现しています。

ボンバード蒸着源　BS-60310BDS

This is an electron beam indirect heating evaporation source developed for low damage, low defect, and low melting point material evaporation applications
従来の电子铳と比较して、总体へのX线及び反射电子影响が大幅に低减されます。
有机EL用膜电极の蒸着に适しています。
電子ビームによる間接加熱方式を採用する事により、蒸着材料の急激な温度上昇が抑えられる為、スプラッシュの発生が従来の電子銃と比較して、大幅に抑制され、低欠陥MgF2光学膜、撥油・撥水膜の蒸着に適しています。
リボルバ式蒸着材料交換機構により、多層蒸着や厚膜蒸着も可能です。

电子铳 BS-60250DEM

This is a new type of electron gun developed for high-rate metal deposition
支持最大输出16kW（10kV-16A），实现金属薄膜的高速沉积。
φ50mmルツボに标准対応し、オプションでφ70mmルツボにも対応できます。
suキャン性能の向上により、均一な蒸発面を実现し、酸化物蒸着にも対応可能です。

电子铳 BS-60060DEBS

酸化物蒸着に有效です。安定した成膜ができます。
JEBG-102UH0 Electron gun and shape compatible
The filament life is now even longer than before
kurininguし易い形状で、メンテナンsu性が良好です。

等离子源 BS-80020CPPS

A plasma source for low temperature processes
适用于塑料和有机薄膜上的成膜（等离子体辅助气相沉积）和表面改性应用。
無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます基板近傍のイオンアシスト効果も付加され、さらに蒸着材料によってはARE（活性化反応蒸着）効果が期待できます。
Can also be retrofitted to an existing vacuum chamber

关连rinku

お问い合わせ

天游线路检测中心
デマンド推進本部 企画部 イベントグループ
电子邮件：jeol_event[at]jeolcojp
*请将[at]更改为@