天游线路检测中心 JPS-9030
光电子能谱装置（XPS）

我们采用了全新设计的用户界面，可以在日语环境下操作，让任何人都可以立即轻松使用。此外，标准配备了考夫曼型蚀刻离子源和双阳极，虽然是通用型XPS，但还具有高温加热系统和气体团簇离子源等广泛的扩展性。

功能

①可在短时间内测量的广域分析

JPS-9030是一种XPS设备，可以分析宽广的样品区域，分析面积为毫米级，并且擅长平均值分析。可以获得样品本身的信息，无需担心样品分离或局部污染。
适用于粉末、薄膜、板状样品等的元素分析和化学键态分析

〇广域分析应用示例-LIB正极材料的元素分析

LIB正极材料乍一看似乎是均匀的，但如果分析范围较窄，元素分析结果可能会有所不同。
另一方面，通过扩大分析范围，可以获得平均信息而不受局部污染的影响。

缩小分析范围并在3处进行测量
⇒结果差异很大

扩大分析范围并在3处进行测量
⇒结果略有差异

② 易于操作的 SPECSURF 软件

新开发的软件SPECSURF Ver20支持日语，通过结合功能区界面和选项卡窗口系统，仅使用鼠标即可提供用户友好的操作环境。

③可测量多种材料的设备配置-Mg/Al双阳极X射线源-

JPS-9030可以使用单色X射线源和Mg/Al双阳极X射线源。 Mg/Al双阳极X射线源可以在Mg K线和Al K线之间切换照射到样品的X射线，即使是含有大量元素且光电子峰和俄歇峰重叠的样品也可以毫无问题地进行测量。

〇Mg/Al双阳极X射线源使用示例-含Fe、Ni样品的分析-

XPS光谱中光电子峰和俄歇峰容易重叠的样品的一个例子是含有多种过渡金属元素的样品。以下是测量含有 Fe 和 Ni 的样品的示例。可以看出，通过使用镁源可以避免与铝源发生的峰重叠。

使用 Al 源测量 ⇒ 峰重叠

使用镁源测量⇒避免峰重叠

③可测量多种材料的设备配置-考夫曼型离子源-

JPS-9030配备考夫曼型离子源作为Ar离子源。是可以获得大电流的离子源，即使降低加速电压也能进行实用的蚀刻。这使得蚀刻能够保持样品结构。

此外，JPS-9030 在样品制备室设有离子源。

〇考夫曼型离子源-EUV光刻用Mo/Si多层反射镜的使用示例-

JPS-9030可以从垂直方向以低加速度Ar离子照射样品，因此可以用于超薄多层膜的深度分析。
以下是EUV光刻用Mo/Si多层反射镜的深度方向分析结果。可以了解厚度约为10 nm的薄膜的层结构并评估界面的陡度。

③能够测量多种材料的设备配置 - 各种其他附件 -

JPS-9030 有多种选项。
我们还根据客户要求制造附件。

许多选项

• 提高能量分辨率的单色 X 射线源

• Ar气团簇离子源适用于易受损坏的有机样品

• 红外线加热系统，可加热至1000°C以上

• 未暴露样品的转移容器

，可以满足您的所有需求。

XPS 可以做什么

可以使用 XPS 执行的分析（应用程序）示例如下。

顶面元素分析

XPS 能够对样品最外表面（10 nm 或更小）进行元素分析。
因此，可以轻松分析肉眼难以确定的有机污渍。

未受污染的 PET（左）和表面附着有机硅的 PET（右）

PET的C 1s光谱，有机硅附着的PET

化学键态分析

XPS 除了元素分析之外还可以进行化学键态分析。
例如，在锂离子电池中，可以评估电极上存在何种化合物Li。

锂离子电池的结构

各种Li化合物的Li 1s谱

深度分析

通过使用XPS进行深度方向分析，可以评估从约10 nm的超薄样品到厚度为数μm的样品的层结构和界面处的化学键合状态。

玻璃表面增透膜示意图

增透膜深度分析结果

规格/选项

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JPS-9030光电子能谱仪

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