用于低温工艺的等离子体源，抑制等离子体引起的基板和基材的温度升高，并增加对基板/基材的离子照射能量。适用于塑料和有机薄膜上的成膜（等离子体辅助气相沉积）和表面改性应用。
功能
即使不加热也能形成具有良好附着力和高填充密度的薄膜
高密度等离子体可有效实现真空室内蒸汽和工艺气体的高效电离
在基板附近添加离子辅助效果，并且根据沉积材料，可以预期ARE（激活反应沉积）效果
不是安装在法兰上，而是内置在腔体内的类型，并且可以调节光束照射角度，因此可以安装在各种布局的真空设备中
也可以改装到现有的真空室
ARE（活化反应沉积）
除了普通等离子源的放电外，通过向蒸发源侧提供辅助电源，可以有效地将坩埚上蒸发的材料电离并蒸发。 *
ITO沉积过程中放电期间等离子体源和电子枪坩埚上方的蒸气的激活
在氧化物中，通过提高折射率和促进氧化来减少吸收，
透明导电膜有望提高导电性。
坩埚上放电的发生取决于材料。
成膜示例
1。增透膜
2。透明导电膜
等离子表面处理示例
控制电源/操作屏
输出转换单位
通过使用可选的输出转换单元（BS-Z12127TPPS），可以稳定等离子体输出和过程，并可以进行大范围的输出调整。
规格/选项
| 最大放电输出 | 32kW（160V，20A） |
|---|---|
| 最大辅助输出 | 2kW（200V，10A） |
| 工作压力 | 8×10-3～8×10-2Pa（Ar，O2，N2气氛) |
| 放电气体（Ar） | 8～20mL/分钟 |
| 适用控制电源 | BS-92040CPPC |
外部尺寸
BS-92040CPPC等离子源控制电源：570mm(W)×800mm(D)×1,550mm(H)
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