安装在真空室中并产生高密度等离子体的等离子体源。等离子体辅助沉积（离子镀）与真空沉积相结合，可以改善光学薄膜、保护膜、功能膜等薄膜性能。它对于清洁基材和表面改性也很有效。
功能
低电压、高电流的高密度直流等离子体可高效电离气体分子和蒸发颗粒。
可以进行反应性气相沉积，并且对于促进氧化特别有效。
高密度等离子体扩散到整个腔室，允许在大面积上高速成膜。
不是安装在法兰上而是内置在腔体内的类型，并且可以调节光束照射角度，因此可以安装在各种布局的真空设备中。
也可以改装到现有的真空室。
应用示例
等离子体辅助沉积（离子镀）
蒸发的粒子被高密度等离子体激发电离，活化的高能粒子被加速到基材上，形成致密的高附着力薄膜
等离子体反应沉积
清洁
去除基材和薄膜表面的油污和灰尘
表面改性
基材表面氧化/氮化/活化处理
等离子体辅助成膜的效果
薄膜密度和折射率的提高
提高耐环境性
减少波长偏移
低吸收膜（促进氧化）
提高附着力
表面光滑度的改善
膜应力控制
应用示例
这是使用内置等离子体枪(BS-80011BPG)的等离子体辅助气相沉积形成光学薄膜(电介质多层膜)的示例。
与真空沉积膜相比，波长偏移量和膜密度大大提高。
规格/选项
| 最大放电输出 | 6kW（160V，38A） |
|---|---|
| 工作压力 | 1×10-2～1×10-1Pa（Ar，O2，N2气氛) |
| 放电气体（Ar） | 8～20mL/分钟 |
| 冷却水 | 7～10L/分钟 |
| 光束法 | 反射光束模式（标准）/照射光束模式（可选） |
| 适用控制电源 | BS-92020 |
外部尺寸
真空室安装示例
目录下载
BS-80011BPG 内置等离子枪，用于产生高密度等离子体
申请
与 BS-80011BPG 相关的应用
高功率内置等离子枪应用实例：等离子辅助气相沉积光学薄膜生产实例
图库
相关产品
BS-80020CPPS 等离子体源
这是用于低温工艺的等离子体源，可抑制等离子体引起的基板和基材的温度升高，并增加对基板/基材的离子照射能量。适用于塑料和有机薄膜上的成膜（等离子体辅助气相沉积）和表面改性应用。
