天游线路检测中心 VACUUM2025真空展

《VACUUM2025真空展》是真空设备及器材的综合性展览会，今年已是第47届了。每年都有大量涉及真空技术，包括技术开发、产品制造、销售等的企业和研究人员参观该展会，并举办许多与业务直接挂钩的商务洽谈。我们将展示电子枪、电源、轰击沉积源、背散射电子陷阱和等离子体源，这些都是形成高性能光学薄膜的理想选择。我们期待在那里见到您。

展览内容

轰击沉积源 BS-60610BDS

这是一种采用电子束轰击间接加热方法的真空蒸发源。
适合低损伤、低缺陷、低吸收、厚膜、高速率成膜。
继承了前代型号（BS-60310BDS）的特点，实现了大内胆容量和高速率。

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轰击沉积源 BS-60310BDS

这是一种电子束间接加热蒸发源，专为低损伤、低缺陷和低熔点材料蒸发应用而开发。
与传统电子枪相比，X射线和反射电子对基板的影响显着降低。
适用于有机EL电极膜的蒸镀。
通过采用电子束间接加热方法，抑制了蒸发材料的快速升温，因此与传统电子枪相比，显着抑制了飞溅的产生，使其适合低缺陷MgF2光学薄膜和防油防水薄膜的蒸镀。
旋转式沉积材料交换机构允许多层沉积和厚膜沉积。

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电子枪BS-60250DEM

专为高速金属沉积而开发的新型电子枪。
支持最大输出16kW（10kV-16A），实现金属薄膜的高速沉积。
标准兼容 φ50mm 坩埚，也可选配 φ70mm 坩埚。
改进的扫描性能可实现均匀的蒸发表面，并且还与氧化物蒸发兼容。

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电子枪 BS-60060DEBS

对氧化物沉积有效。可实现稳定的成膜。
JEBG-102UH0 电子枪和形状兼容。
灯丝寿命现在比以前更长。
易于清洁的形状，易于维护。

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等离子源 BS-80020CPPS

用于低温工艺的等离子体源。
适用于塑料和有机薄膜上的成膜（等离子体辅助气相沉积）和表面改性应用。即使采用无热沉积，也可以形成具有良好粘附性和高填充密度的薄膜。
在基板附近添加离子辅助效果，并且根据沉积材料，可以预期ARE（激活反应沉积）效果。
也可以改装到现有的真空室。

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