功能
闪电般的速度：EDM 系统的切换时间快于 20 ns。
独立强度调整：通过以可变脉冲宽度快速打开和关闭光束，EDM 可以轻松调整平均光束强度，而无需改变图像条件。桌面附件旋钮提供了直观的界面来调整剂量衰减系数。
剂量结构：用户可以通过在脉冲中施加剂量来控制照明，脉冲的可变持续时间短至 100 ns，频率高达 500 kHz。
现代控制软件：EDM 开箱即用，可用作快速光束消隐器。随附的控制软件可用于可编程剂量衰减、记录等。
集成：EDM 充当快速可靠的预采样光束消隐器，同时支持配套的相对论子框架系统以及第三方硬件。
脉冲束 TEM 照明*
脉冲光束 STEM 照明*
在 300 kV 的高分辨率 STEM 中使用 Si[110]，在 19 μs/像素（1,024 x 1,024 像素）的像素驻留时间条件下，通过在 20 秒内采集一张 STEM 图像期间将持续时间比率从 90% 更改为 50%，通过频率为 500 kHz (2 μs) 的脉冲照明进行剂量衰减。
规格/选项
快速光束消隐
| 数量 | 值 |
|---|---|
| 最大脉冲频率 | 500kHz |
| 过渡时间 90%-10% | 20 ns |
| 消隐信号 | 3 个输入 |
剂量衰减
| 配置 | EDM 基础 |
|---|---|
| 申请 | TEM 和 STEM 成像 |
| 脉冲重复频率（最大） | 500kHz |
| 脉冲宽度增量 | 625 纳秒 |
| 最小脉冲宽度 | 125 纳秒 |
EDM 选项
| EDS 真实面扫描 | 具有 EDM 同步功能的 EDM 可编程扫描 |
Applicable model: JEM-ARM300F2, JEM-ARM200F (CFEG), NEOARM (CFEG), JEM-F200 (CFEG),JEM-3300、JEM-Z200FSC、JEM-Z200CA
图库
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使用 EDM 进行时间分辨 DPC 成像
静电剂量调制器 (EDM) 使 TEM 的频闪测量变得简单1。2安装在 Hummingbird Scientific 偏压样品架的芯片上。期间每
通过改变曝光脉冲的延迟时间，可以在不同的温度下测量样品TM微型或其他在样本中产生可重复动态的系统。
来自 SiC MOS 电容器的 tr-DPC 测量的选定图像。通过光束在每个探头位置的偏转来观察样品中的场。图像顶行中的强度显示了该偏转的幅度，颜色指示了方向。这些的分歧表示电荷密度，并由采集软件自动计算（图像的底行）。场集中在 SiC（左）和 Al（右）之间的氧化物界面处。在 t = 15 μs 时，偏置电压穿过零伏，并且磁场改变极性。
1。测量条件：仪器JEM-F200，加速电压200 kV，STEM Lorenz模式，停留时间50微秒，像素数512×512。简化了实验设置图。有关详细配置信息，请咨询当地的 JEOL 销售办事处。
2。样品是由 Al、SiO 制成的 MOS 电容器2，以及n型SiC，200 nm厚，由富士电机有限公司提供
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具有 EDM 同步功能的可编程 STEM控制每个像素的剂量。
The Electrostatic Dose Modulator (EDM) is a fast beam blanking system with a pre-sample electrostatic deflector, including electronics and software control EDM can also attenuate electron illumination without affecting imaging conditions, giving TEM and STEM users more control over the dose on their samples可选同步升级takes EDM's timing and synchronization capabilities to the next level Synchrony can coordinate with a STEM controller, tracking the probe beam location as it scans across the sample EDM's lightning-fast electrostatic blanking turns the beam on for a specified time at each pixel, or keeps the beam blanked to completely exclude dose sensitive regions from
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