配备场发射电子枪（FE-EPMA）的EPMA于2003年由JEOL首先实现商品化，此后广泛应用于金属、材料、地质等各个领域，并获得了高度评价。 JXA-8530FPlus 是 JEOL 的第三代产品，它是一款可以为多种应用提供高吞吐量的设备，具有显着增强的光学系统和新开发的软件。 FE-EPMA 满足广泛的需求，同时保持其经过验证的稳定性。
功能
镜内肖特基 Plus FEG EPMA 版本
镜内肖特基 Plus FEG EPMA 版本优化了角电流密度，允许使用 2 μA 或更大的大电流进行分析。此外，分析条件下的二次电子分辨率也得到了提高。
高级软件
我们在基于Windows®的操作环境中提供了多种软件，包括新开发的“微量元素分析程序”，可让您更轻松地分析痕量，“Phase Map Maker”可让您自动创建相图，以及“不均匀样品分析程序”，可让您通过简单的输入测量不均匀样品。
Windows 是 Microsoft Corporation 在美国和其他国家/地区的注册商标或商标。
灵活的WDS配置
您可以为 Roland 圆选择 140R 和 100R X 射线光谱仪。罗兰圆半径为140R的XCE/L型X射线光谱仪具有宽光谱范围和优异的波长分辨率和P/B比。 100R H型X射线光谱仪具有X射线强度高的特点，可根据用途进行选择。
WDS/EDS 组合系统
自制30毫米2 标配SD检测器（以下简称SD检测器）。通过采用具有高系数率的SD检测器，现在可以在与WDS分析条件相同的条件下进行测量。通过简单的操作收集 EDS 光谱。
多功能室
配备高度可扩展的样品室和样品交换室，并可安装各种附件。
可安装的附件示例
晶体取向分析仪 (EBSD)
阴极发光检测器
软X射线光谱仪
与非大气暴露兼容的转移容器
高速蚀刻离子枪
强大的清洁真空系统
这是一个高功率真空系统，包括两个磁悬浮涡轮分子泵。另外，镜筒内设有两个中间室，并实现差动抽气，以保持电子枪室内的高真空。
软 X 射线发射光谱仪 (SXES)
这是由东北大学多学科材料科学研究所（寺内正美教授）和日本电子株式会社等共同开发的高分辨率X射线光谱仪。
采用新开发的不等槽衍射光栅，可通过高灵敏度CCD同时检测Li-K和B-K光谱。它具有极高的分辨率，可以进行化学键态分析。
显微镜（相关显微镜）
您可以将光学显微镜上指定的坐标数据一次性注册为EPMA中的分析点。该系统非常适合需要使用光学显微镜确定分析位置的样品。
规格/选项
| 分析元素范围 | WDS： (Be) B〜U,EDS： B〜U |
|---|---|
| X射线光谱范围 | WDS光谱范围：0087-93nm，EDS能量范围：20keV |
| X射线光谱仪的数量 | WDS：1至5个单位选择，EDS：1个单位 |
| 最大样本量 | 100毫米×100毫米×50毫米（高） |
| 加速电压 | 1～30kV（01kV步长） |
| 二次电子分辨率 | 3nm（工作距离11毫米，30kV） |
| 20nm（10kV，10nA，WD11mm）50nm（10kV，100nA，WD11mm） | |
| 扫描放大倍率 | × 40 ~ × 300,000 (WD 11mm) |
| 扫描图像分辨率 | 最大 5,120×3,840 |
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JXA-8530FPlus 场发射电子探针微量分析仪 (FE-EPMA)
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与 JXA-8530FPlus 相关的应用
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