您需要的数据总是简单的。
扫描电子显微镜 (SEM) 不仅已成为研究、质量保证和制造的重要工具。在这些地点,需要一遍又一遍地重复相同的观察工作,并且需要提高该过程的效率。JSM-IT510新增的简单SEM功能让您可以将传统SEM观察所需的重复性手动工作“委托”出去。现在可以更高效、更轻松地完成 SEM 观察工作。
功能
简单扫描电镜
只需选择您要拍摄的视野即可
简单的 SEM 支持日常工作。
样品:电子元件加速电压:15 kV,放大倍数:(顶部)x 50(底部)x 1,000,信号:背散射电子
视频介绍
简单SEM的功能介绍。
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交换导航示例
放入样品,毫不犹豫地观察
安全又简单!交换导航示例
1。根据样本交换导航插入样本
2。准备使用真空抽气时间进行观察
舞台导航系统 (SNS) 是可选的。
SNS 大样本 (SNSLS) 是一个单独的选项。可以与SNS结合使用。
腔镜 (CS) 是可选的。
3。观察自动开始
疏散完成后,在目标视野内调整焦点和亮度。
零磁
如果放大光学图像,它是SEM图像
Zeromag 保存支架图形和光学图像※和 SEM 图像。
当多个样品放置在支架中或观察特定位置时,可以更轻松地找到视野。
需要可选的舞台导航系统 (SNS) 来显示光学图像。
样品:菊石化石<加速电压:7 kV,信号:背散射电子
实时分析/实时地图※
即使在观察期间也能进行连续元素分析
实时分析是一种始终显示特征 X 射线光谱和元素图的功能。
您可以在观察的同时搜索所需的元素。
适用于 A(分析)/LA(低真空和分析)。
样品:菊石化石加速电压:15 kV 放大倍数:×1,000
轻松分析功能
点击 3 次即可开始分析。
简单SEM的功能介绍。
视频介绍
介绍实时地图的功能。
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功能齐全
低真空混合二次电子探测器(LHSED)※
JSM-IT510可配备新开发的LHSED。
通过检测二次电子与残余气体分子碰撞时产生的电子和激发光,即使在低真空下也可以获得不均匀信息。
这是可选的。需要 LV(低真空)和 LA(低真空与分析)。
低真空混合二次电子探测器工作原理样品:石膏加速电压:7 kV,放大倍数:×10,000,信号:低真空二次电子
直播 3D※
使用新开发的 4 段背散射电子探测器实时显示 3D 图像*。
这使您可以在视觉上识别难以判断不均匀性的样品形状。
适用于 LV(低真空)、LA(低真空和分析)。如果安装了背散射电子探测器(可选),则可以进行 BU(基本单元)和 A(分析)。
样品:螺丝加速电压:15 kV 放大倍数:×100 信号:背散射电子
视频介绍
介绍 Live 3D 的功能。
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蒙太奇功能
自动将多个视野拼接到单个图像中。
样品:菊石化石加速电压:15 kV,放大倍数:×150,信号:背散射电子视场数:13×13
需要可选的舞台导航系统 (SNS) 来显示光学图像。
信号深度显示
信号深度显示功能内置于 SEM GUI 中,可让您立即了解正在测量的样品的分析深度(近似值)。对元素分析有效。
相关链接
新闻稿
推出新型扫描电子显微镜 JSM-IT510 系列 InTouchScope™
规格/选项
技术数据
JSM-IT510系列有4种类型。
| BU(基本单位) | 可在高真空下观察的基本型 |
|---|---|
| A(分析) | 配置能量色散X射线光谱仪(EDS)并可进行标准分析的分析型 |
| LV(低真空) | 低真空型配备背散射电子探测器(BED),可在低真空(最大650 Pa)下进行观察 |
| LA(低真空和分析) | 配置了 BED 和 EDS 的低真空分析类型 |
主要规格
| 分辨率 | 高真空模式30 nm (30 kV), 150 nm (10 kV)低真空模式※1 40 nm(30 kV BED) |
|---|---|
| 照片放大 | ×5 ~ ×300,000(放大倍率是根据显示尺寸128毫米×96毫米定义的) |
| 显示放大倍数 | ×14 ~ ×839,724(放大倍率是根据显示器尺寸358毫米×269毫米定义的) |
| 电子枪 | W灯丝全自动喷枪对准 |
| 入射电压 | 03kV~30kV |
| 低真空压力设定范围※1 | 10 ~ 650Pa |
| 物镜光圈 | 4级带XY微调功能 |
| 自动功能 | 灯丝调整、喷枪对准调整光束对准对焦/散光/亮度/对比度调节 |
| 最大样本量 | 200 毫米直径 x 75 毫米高度200 毫米直径 x 80 毫米高度※332 毫米直径 x 90 毫米高度※3 |
| 样品阶段 | 大型同心型X:125 毫米 Y:100 毫米 Z:80 毫米倾斜:-10 ~ 90° 旋转:360° |
| 图像模式 | 二次电子图像、REF图像、合成图像※1凹凸图像※1,3D 图像※1,PD 图像※4 |
| 图片大小 | 640 × 480 1,280 × 9602,560 × 1,920 5,120 × 3,840 |
| 摄影辅助功能 | 蒙太奇摄影,简单 SEMZeromag,实时 3D |
| 操作支持功能 | 食谱(标准食谱/自定义食谱)测量(两点之间的距离、平行线之间的距离、角度、直径等)交换导航示例信号深度显示3D测量※5 |
| 操作系统 | 微软®Windows®10 64 位 |
| 观察监视器 | 238型触摸屏 |
| EDS 功能※2 | 请参阅 EDS 规范 |
| 数据管理 | SMILE VIEW™ 实验室 |
| 报告创建一键报告 | 微软®输出到Word微软®输出到 PowerPoint※6 |
| 排气系统 | 全自动 TMP:1 单位 RP:1 或 2 单位※1 |
主要选项
背散射电子探测器 (BED)※1
低真空混合二次电子探测器(LHSED)
低真空二次电子探测器(LVSED)
能量色散X射线光谱仪(EDS)※2
波长色散 X 射线光谱仪 (WDS)
电子背散射衍射检测器 (EBSD)
装载室 (LLC)
舞台导航系统(SNS)
舞台导航系统大样本(SNSLS)
暗室瞄准镜 (CS)
操作面板(OP2)
LaB6 单元 (LAB6)
三维分析软件(SVM)
表格(TBL)
EDS 规范
适用于 A(分析)/LA(低真空和分析)。●: 标准 ○: 选项
| 标准 | ||
|---|---|---|
| 控制电脑 | 操作系统:微软®Windows®10 64 位※8 | ● |
| 支持的语言 | 日语/英语/中文※7 | ● |
| 探测器 | SDD 类型 | 从探测器列表中选择 |
| 光谱分析 | 定性分析(峰识别、自动定性)视觉峰 ID无标定量分析(ZAF法)标准定量分析(ZAF法)※9PHI-RHO-Z(PRZ)合法定量校正方法QBase(定性分析数据库) | ● |
| 线路分析 | 直线分析(水平、任意方向) | ● |
| 元素图 | 元素图(多色显示、单色显示、多色复合)最大分辨率4,096×3,072实时弹出频谱波形分离图(净计数图、定量值图)实时净计数图实时过滤线路轮廓显示探针跟踪播放分析 | ● |
| 持续分析 | 光谱分析/线分析/元素图测量数据的批量分析(定性/定量) | ● |
| 蒙太奇 | 自动蒙太奇创建(SEM 图像、元素图)跨越多个视野的连续元素图 | ● |
| 颗粒分析软件 | 颗粒分析(自动/手动)&EDS分析、颗粒分析数据分类功能、颗粒分析数据统计处理的图形显示、广域连续颗粒分析和EDS分析GSR 库铁矿石分析库汽车零部件清洁度分析库 | ○ ○○○ |
| 报告创建 | SMILE VIEW™ 实验室微软®Word、微软®输出到 PowerPoint※6 | ● |
| SEM 集成 | 观测分析数据统一管理指定SEM操作屏幕上的分析位置(从SEM UI直接分析)分析位置的图形显示 | ● |
| 帮助功能 | 提供帮助指南 | ● |
| 双探测器 | 集成并分析来自每个探测器的数据※10 | ○ |
| 离线功能 | 允许在设备以外的 PC 上进行数据分析的许可软件 | ○ |
JSM-IT510LV/LA标准功能。
JSM-IT510A/LA标准功能。
需要期权持有人。
需要 LHSED(可选)。
需要 SVM(可选)。
微软®需要安装 Office。
中文是可选的。
对于 JSM-IT510A / LA 型,EDS 软件安装在电子显微镜主体附带的 PC 上。不需要用于 EDS 的专用 PC。
需要辐照电流校正单元(可选)。仅当电子显微镜本身连接到 PC 时才能自动读取照射电流。
需要两个具有相同检测元件面积的 EDS 检测器。根据安装位置的不同,样品台的倾斜可能会受到限制。
由于改进,外观和规格如有更改,恕不另行通知。
Microsoft、Windows、PowerPoint 和 Microsoft Office 是 Microsoft Corporation 在美国和其他国家/地区的注册商标或商标。
Microsoft Word 是美国微软公司的产品名称。
目录下载
JSM-IT510 InTouchScope™ 扫描电子显微镜
申请
与 JSM-IT510 相关的应用
图库
金属材质
钢板结晶度的观察
金属等晶体样品由于晶体取向的差异而表现出对比度(沟道对比度)。
样品:高强度钢板横截面加速电压:5 kV 放大倍数:×500 信号:背散射电子
CrossSectionPolisher™可以通过用宽幅氩离子束照射样品来进行截面加工和平面铣削。与一般机械抛光方法相比,更容易产生良好的横截面且无加工变形。
单独出售。
金属断口观察
通过观察金属的断裂面,可以研究断裂是如何发生的以及过程。
疲劳失效引起的条纹图案
样品:奥氏体不锈钢 加速电压:10 kV 放大倍数:×5,000信号:二次电子
由于延性断裂而形成凹痕图案
样品:奥氏体不锈钢 加速电压:10 kV 放大倍数:×5,000信号:二次电子
由于晶界断裂而根据晶粒的 3D 形状
样品:奥氏体不锈钢 加速电压:10 kV 放大倍数:×5,000信号:二次电子
半导体材料
抗蚀图案的观察
抗蚀剂是半导体制造中必不可少的材料,使用 SEM 进行质量控制非常重要。
您可以通过观察其横截面来检查加工状态。还可以测量图案的长度。
抗蚀剂图案的横截面(35°倾斜)
加速电压:8 kV 放大倍数:×30,000 信号:二次电子
硅片上绘制的抗蚀图案
加速电压:10 kV 放大倍数:×3,000 信号:二次电子
加速电压:10 kV 放大倍数:×20,000 信号:二次电子
印刷电路板检查
SEM 对于印刷电路板的质量控制也很有效。如果使用低真空功能,则无需任何预处理即可直接观察。
印刷电路板上的片式电容器
加速电压:15 kV 放大倍数:×45 信号:加法信号(低真空背散射电子:低真空二次电子=3:7)
图像分析软件※执行自动长度测量
*可选。 MultiImageTool(由 System Infrontia 制造)
软质材料/高分子材料
即使是非导电样品,如吸水聚合物和掩模,也可以通过使用低真空功能进行观察,无需预处理。
吸水性聚合物
加速电压:10 kV 放大倍数:×1,000 信号:低真空二次电子
加速电压:10 kV 放大倍数:×1,000 信号:低真空背散射电子
无纺布口罩
加速电压:10 kV 放大倍数:×50 信号:低真空背散射电子
聚氨酯面罩
加速电压:10 kV 放大倍数:×50 信号:低真空背散射电子
可以同时获取二次电子图像和背散射电子图像。
您可以使用二次电子图像观察聚合物颗粒的形状。
聚合物表面的沉积物在背散射电子图像中显得明亮,表明它们由相对较重的元素组成。
生物样本
细胞和微生物等生物样品可以通过化学固定或冷冻干燥在保持其形状的同时进行观察。
红细胞和白细胞
加速电压:3 kV 放大倍数:×7,000 信号:二次电子
小球藻
加速电压:3 kV 放大倍数:×15,000 信号:二次电子
银杏花粉
加速电压:10 kV 放大倍数:×2,000 信号:二次电子
