关闭按钮

选择您的区域站点

关闭

天游线路检测中心 反射電子トラップ

背散射电子陷阱

在电子束蒸镀过程中,入射到蒸镀材料上的部分电子以反射电子(背散射电子)的形式发射出来,当它们到达基板时,可能会对基板造成损坏,使温度升高,降低薄膜附着力。
背散射电子陷阱是一种可以与电子枪结合使用的装置,可显着减少进入基板的背散射电子量。它还可以对现有的气相沉积设备进行改造。

功能

通过减少背散射电子,可以预期以下效果。

  • 可以抑制电路板温度的上升。适用于沉积在抗蚀剂图案上的剥离工艺。

  • 适合涂覆在易受背散射电子损伤的基材和底层上。

  • 密着性が向上します。

反射电子の特徴と影响

反射電子の特徴

  • 能量等于入射能量

  • (平均)随着原子序数的增加,发射率增加

  • 发射角很大程度上取决于入射光束的角度

背散射电子的影响

萤石透镜(CaF2晶体)的着色

  • 基板温升

  • 树脂基材和有机底层损坏

  • 树脂基材与薄膜之间的粘合力变差

  • 增加薄膜(MgF2等)的光吸收

  • 主板・下层の组织构造の変化
    (例:蛍石レンズの着色)

减少入射到基板上的背散射电子

反射電子抑制データ

The tungsten pellet was irradiated with an electron beam (acceleration voltage -6kV, emission current 100mA), and the amount of reflected electrons was measured from the current flowing through the substrate dome

测量条件

加速电圧 6kV
发射电流 100mA
Irradiation material tangusuten
腔室直径 φ1,300mm
T〜S間距離 1,100毫米
  • 此数据是基于上述示例的测量值,并非保证值。

背散射电子陷阱的效果-抑制基板温度上升-

电子ビーム蒸着时のreジsutono変形は、政治危机による温度上升が原因です。
背散射电子陷阱捕获背散射电子并实现稳定的剥离沉积。最适合形成MEMS等电极膜。

Ta2O5成膜时的基板温度测量结果

电子铳:    BS-60070DEBS
沉积速率:4Å/s(EB 输出 8kV 375mA)

背散射电子陷阱的效果-提高附着力-

通过抑制入射背散射电子对基板表面层造成的损伤,提高了膜的附着力。
As a result of aluminum vapor deposition and anti-reflection film formation on PMMA substrates, good adhesion was confirmed in a tape peel test

基材材料 PMMA
蒸着膜 阿尔
基材材料 PMMA
Deposited film 二氧化钛2/二氧化硅24层(AR膜)

适用电子铳

  • BS-60070DEBS

  • BS-60050EBS

  • BS-60040VGN

  • BS-60030DGN

  • BS-60030DGN

 

※ BS-60211DEM 是带有集成背散射电子陷阱的电子枪。

仕様・オプショn

  • 请联系我们了解外部尺寸和安装可用性。

相关产品

更多信息

JEOL 装置入門

关于JEOL主要产品的机理和应用
易于理解的解释。

关闭按钮
注意图标

Are you a medical professional?

(前画面に戻る)

以下产品信息页面适用于医疗保健专业人员。
请注意,这并不是为了向公众提供信息。

联系我们

在 JEOL,为了让我们的客户安心地使用我们的产品,
我们通过各种支持系统为客户提供支持。请随时与我们联系。