在电子束蒸镀过程中,入射到蒸镀材料上的部分电子以反射电子(背散射电子)的形式发射出来,当它们到达基板时,可能会对基板造成损坏,使温度升高,降低薄膜附着力。背散射电子陷阱是一种可以与电子枪结合使用的装置,可显着减少进入基板的背散射电子量。它还可以对现有的气相沉积设备进行改造。
功能
通过减少背散射电子,可以预期以下效果。
可以抑制电路板温度的上升。适用于沉积在抗蚀剂图案上的剥离工艺。
适合涂覆在易受背散射电子损伤的基材和底层上。
密着性が向上します。
反射电子の特徴と影响
反射電子の特徴
能量等于入射能量
(平均)随着原子序数的增加,发射率增加
发射角很大程度上取决于入射光束的角度
背散射电子的影响
萤石透镜(CaF2晶体)的着色
基板温升
树脂基材和有机底层损坏
树脂基材与薄膜之间的粘合力变差
增加薄膜(MgF2等)的光吸收
主板・下层の组织构造の変化(例:蛍石レンズの着色)
减少入射到基板上的背散射电子
反射電子抑制データ
The tungsten pellet was irradiated with an electron beam (acceleration voltage -6kV, emission current 100mA), and the amount of reflected electrons was measured from the current flowing through the substrate dome
测量条件
| 加速电圧 | 6kV |
|---|---|
| 发射电流 | 100mA |
| Irradiation material | tangusuten |
| 腔室直径 | φ1,300mm |
| T〜S間距離 | 1,100毫米 |
此数据是基于上述示例的测量值,并非保证值。
背散射电子陷阱的效果-抑制基板温度上升-
电子ビーム蒸着时のreジsutono変形は、政治危机による温度上升が原因です。
背散射电子陷阱捕获背散射电子并实现稳定的剥离沉积。最适合形成MEMS等电极膜。
Ta2O5成膜时的基板温度测量结果
电子铳: BS-60070DEBS
沉积速率:4Å/s(EB 输出 8kV 375mA)
背散射电子陷阱的效果-提高附着力-
通过抑制入射背散射电子对基板表面层造成的损伤,提高了膜的附着力。
As a result of aluminum vapor deposition and anti-reflection film formation on PMMA substrates, good adhesion was confirmed in a tape peel test
| 基材材料 | PMMA |
|---|---|
| 蒸着膜 | 阿尔 |
| 基材材料 | PMMA |
|---|---|
| Deposited film | 二氧化钛2/二氧化硅24层(AR膜) |
适用电子铳
BS-60060DEBS / BS-60070DEBS 270°偏转式电子枪
BS-60070DEBS
BS-60050EBS
BS-60040VGN
BS-60030DGN
BS-60030DGN
※ BS-60211DEM 是带有集成背散射电子陷阱的电子枪。
仕様・オプショn
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