该设备的加速电压为100kV，在点束光刻设备中具有世界最高水平的吞吐量和位置精度。最大样品尺寸为300mmφ晶圆和6英寸掩模，可以应对纳米压印、光子器件、通信器件等各个领域的研发到生产。
功能
除了最大100MHz的扫描速度之外，它还是一款100kV设备，结合了点束机中世界最高水平的吞吐量和位置精度，在1000μm x 1000μm的场尺寸中，叠加精度为±11nm，场键合精度为±10nm，场面内位置精度为±9nm。
由于定位DAC使用20位，扫描DAC使用14位，因此对于每1 nm的绘图数据增量，扫描步长以025 nm为单位，从而实现更高分辨率和更忠实地再现绘图数据。
通过将扫描速度提高到最大100MHz，可以在高电流绘制期间保持较短的扫描步长，从而即使在需要高精度的图案绘制时也可以提高吞吐量。
我们通过LBC（激光束控制）将最小定位单元增加到015nm（λ/4096），实现了世界最高水平的定位精度。
我们独特的自动校准功能（自动校正功能）在长时间绘图过程中提供可靠的稳定性。可以随时为每个字段或每个模式设置自动校正时间。这对于没有操作员在场的长时间绘图非常有效，例如周末或连续假期。
最大样品尺寸为300mmΦ晶圆和6英寸掩模，该设备可以处理纳米压印、光子器件、通信器件等从研发到生产的一切。通过添加材料盒运输系统（可选），最多可以装载10个盒。
通过使用细间距控制程序（场尺寸微小调制程序），可以为DFB激光器和其他设备生产啁啾周期性衍射光栅。
规格/选项
| 电子枪 | ZrO/W肖特基型 |
|---|---|
| 绘制方法 | 点光束、矢量扫描、步进和重复 |
| 加速电压 | 100kV |
| 绘图材料尺寸 | 可装载最大 300mmΦ 的晶圆、最大 6 英寸的掩模以及任何尺寸的微型样品件。 |
| 最大字段大小 | 1000μm×1000μm |
| 舞台移动范围 | 260mmX240mm |
| 舞台移动控制单元 | 载物台移动控制单元：015nm (λ/4096) |
| 叠加精度 | ±11nm以内 |
| 字段连接准确性 | ±10nm 以内（1000μm x 1000μm 视场） |
| 现场面内位置精度 | ±9nm 以内（1000μm x 1000μm 视场） |
| 定位 DAC | 20位 |
| 扫描速度 | 最大 100MHz |
申请
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