JBX-3200MVS 电子束光刻系统|产品信息|日本日本株式会社

32nm 至 28nm 可变形状电子束光刻系统，用于生产节点掩模和掩模版。
先进技术实现高速、高精度、高可靠性。
这是一种基于加速电压为50 kV的可变形状梁和步进重复台法的牵引装置。

功能

通过利用分步重复写入方法并结合写入剂量调制功能、重叠写入功能等，可以支持传统掩模/掩模版图案化所需的各种校正。

国内外自营口罩店和商家口罩店。

连接准确性	≤±35nm
叠加精度	≤±5nm

关于JEOL主要产品的机理和应用
易于理解的解释。