MET-Etch 是一种用于 TEM 和 SEM 样品的离子束精密蚀刻系统。基本应用是金属、合金和陶瓷的金相学（陶瓷学）领域。它涵盖了广泛的材料，并为样品的湿法化学蚀刻提供了替代或补充。它还提供了一种通用蚀刻技术，比化学处理更适合许多需要清洁或蚀刻的样品。另一个应用是为电子反向散射折叠图案 (EBSD) 和定向成像显微镜 (OIM) 制备 SEM 样品。这些类型的样品通常对表面质量非常敏感。
功能
低声锁定机构提供样品旋转和锁定，以确保均匀蚀刻
无需湿化学品
出色的受控再现性
采样减少
高样本吞吐量
操作简单方便
操作简单方便
维护成本低
规格/选项
| 电子枪 | |
|---|---|
| 离子源 | 潘宁离子枪1套 |
| 离子能量 | 1～10kV |
| 天然气 | 氩气 01mL/min/枪(可以使用其他惰性气体) |
| 光束直径 | 大约。 5mm（旋转约10mm） |
| 离子电流密度 | 最大10mA/cm2 |
| 真空系统 | |
| 无油泵 | 两级隔膜泵和 60L/s Moculella 拖动泵 |
| 气闸室样板间 | |
| 样品交换时间 | 30 秒或更短，耳语锁定 |
| 真空度 | |
| 基础真空度 | 6.6×10-4帕 |
| 使用的真空度 | 8×10-3帕 |
| 真空计 | 潘宁型/样品室，固态检测器/背压 |
| 蚀刻 | |
| 蚀刻速率 | 大约。 3μm/h（10kV 时钨） |
| 样品架 | 水平平台（可安装254mmφ及多个SEM样品台） |
| 样本轮换 | 360°(10-60rpm) |
| 倾斜示例 | 摇摆操作可达 90° 或固定角度 |
| 选项 | 用于 TEM 或 SEM 的 TEM 适配器的侧面入口 |
| 尺寸和实用性 | |
| 外部尺寸 | 560mm（宽）x 480mm（深）x 430mm（高） |
| 质量 | 38公斤 |
| 电源 | 200W 100AVC（可能为 100-240VAC）50/60Hz |
| 天然气 | 氩气纯度99998%以上，0482MPa (70psi)碘（结晶，由用户提供） |
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