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天游线路检测中心 [已售完] JSM-7610FPlus 肖特基场发射扫描电子显微镜

已售完

JSM-7610FPlus肖特基场发射扫描电子显微镜

此产品不再可用。

如果您想了解更多关于您所需产品的最新信息或替代产品,请参阅下面的链接。感谢您对我们产品的持续惠顾。

功能

功能

我们修改了流行的JSM-7610F的电子光学系统,进一步提高了分辨率(15kV 08nm、1kV 10nm),并将其更新为JSM-7610FPlus。
使用半透镜物镜和高功率光学照射系统,可以以高空间分辨率进行稳定的观察和分析。
此外,它还配备了使用 GENTLEBEAM™ 模式的低加速电压观察、使用 r 滤波器的信号选择以及可满足各种需求的扩展性。

半透镜物镜

半入式透镜在样品周围产生强磁场。

样品:碳载铂催化剂纳米粒子 加速电压:15kV

高功率光学器件

独特的电子光学系统,可进行高倍观察和各种分析。

  • 日本电子专利专利号第4146103号

镜内肖特基场发射电子枪

镜内肖特基场发射电子枪通过将电子枪与低像差聚光透镜相结合,可以有效地收集从电子枪产生的电子。

光圈优化镜头 (ACL)

孔径优化透镜 (ACL) 放置在物镜上方,可在整个当前范围内自动优化物镜的孔径角。结果,即使当样品照射电流较大时,与传统方法相比,也可以获得更小的电子探针直径。

即使探头电流很大,探头直径也很小

即使是长期分析也具有高稳定性

镜内肖特基场发射电子枪提供稳定的电子探针。

GENTLEBEAM™ 模式

GENTLEBEAM™ 模式(GB 模式)向样品施加负电压,并在样品前面减速电子束,从而能够在低至 100V 的低加速电压下进行高分辨率观察。

GB模式的效果

GB 模式提高了低加速电压下的分辨率。

进化的低加速度分辨率

r-滤波器

下一代r-滤波器是一种独特的能量滤波器,结合了二次电子控制电极、反射电子控制电极和滤波器电极。当用电子束照射样品表面时,从样品表面发射出具有各种能量的电子。下一代 r 滤波器选择性地检测来自样品的二次电子和反向散射电子,同时通过组合多个静电场将电子束保持在透镜系统的中心。

如何使用下一代 R 滤波器检测信号

LABE 检测器(可选)

LABE(低角度BE)探测器可以探测低角度背散射电子。

LABE 探测器的低角度背散射电子图像

通过使用LABE探测器在极低的加速电压下观察背散射电子图像,可以观察晶粒的沟道对比度。

可扩展性

能量色散X射线光谱仪(EDS)

高功率光学器件可以有效利用 EDS (SDD) 探测器即使在大电流下也不易饱和的特性。通过使用低加速电压和高电流,可以在短时间内测量高质量的映射。在这里,我们展示了可以在 2 分钟内分析 Ni 基底表面上非常薄的石墨烯。

基本型SDD 10mm2检测器可以在短短 30 秒内对约 100 nm 的多层膜的横截面进行分析。

波长色散 X 射线光谱仪 (WDS)

高功率光学器件可以利用 WDS 的特性,因为它允许小探针直径和高电流。
通过使用 WDS,可以检查 EDS 无法检测到的样品中的浓度差异。

阴极发光 (CL)

CL是当用电子束照射样品时发生的发光现象。样品产生的光被抛物面镜(聚光镜)聚焦并被检测。
以下数据是金刚石在1kV下的二次电子图像以及通过衍射光栅进行光谱分析的CL图像。通过在低加速电压下观察 CL 图像,可以以高分辨率看到金刚石表面的缺陷。

优化分析的样品室

样品室的设计使得二次电子探测器、背散射电子探测器、EDS、EBSD、WDS 和阴极发光探测器可以放置在其最佳位置。
二次电子探测器、EDS 和 EBSD 放置在可以同时观察倾斜样品的位置,从而可以同时观察和分析。

可安装多种分析设备。

相关链接

规格/选项

二次电子图像分辨率 08 nm(加速电压15 kV)
10 nm(加速电压1 kV GB模式)
08 nm(加速电压1 kV GBSH模式)*1
分析时30 nm(加速电压15 kV,WD8 mm,照射电流5 nA)
放大倍数 照片放大倍率:×25 ~ 1,000,000(以120mm × 90mm显示时)
显示放大倍数:×75 ~ 3,000,000(显示 1,280 × 960 像素时)
加速电压 01 ~ 30kV
照射电流数 数量 pA ~ 200nA
电子枪 镜内肖特基场发射电子枪
镜头系统 聚光透镜 (CL)
光圈优化镜头 (ACL)
半透镜式物镜 (OL)
样品阶段 全同心测角台,5轴电机驱动
移动范围示例 样品阶段
标准
选项 选项
I 型 A2
X:70 毫米
Y:50 毫米
Z:10 至 40 毫米
倾斜:-5 至 70°
旋转:360°无限
II 型
X:110 毫米
Y:80 毫米
Z:10 ~ 40 毫米
倾斜:-5 至 70°
旋转:360°无限
Ⅲ型
X:140 毫米
Y:80 毫米
Z:10 ~ 40 毫米
倾斜:-5 至 70°
旋转:360°无限
样品架 125mmφ×10mmh用、32mmφ×20mmh用
样品交换 一键交换机制
电子探测器系统 内置上部探测器 R 滤波器
向下探测器
自动功能 聚焦、散光、亮度、对比度
图像观察用液晶显示器 屏幕尺寸23英寸宽
最大分辨率 1,920 × 1,080 像素
SEM控制系统 PC IBM PC/AT 兼容计算机
操作系统 Windows® 7 专业版*2
扫描、显示模式 全屏扫描、实际放大、有限区域扫描、
2分割(不同放大倍率/不同图像),2分割宽屏显示,
4个分区(同时实时显示4个信号),添加图像(4图像+添加图像),
标尺
排气系统 电子枪室/中间室采用离子泵的超高真空干式排气系统
样品室干式排气系统TMP排气系统
  • 安装选项时

  • Windows 是 Microsoft Corporation 在美国和其他国家/地区的注册商标或商标。

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