物联网横截面抛光机™的诞生
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功能
新的 GUI 和 IoT ~操作屏幕和遥控器，易于使用 ~
新的 GUI 使操作过程更容易理解。
可以根据流程图设置处理条件。
预设功能允许您保存和调用与样品匹配的处理条件。
您可以通过网络连接从网络浏览器访问 CP。
您可以远程检查和操作多台机器的加工状态。
高通量离子源~标准处理速度1,200 μm/h以上~
标配高通量离子源，通过优化离子源电极和增加加速电压来提高离子电流密度。
样品：硅晶圆离子能量：10 keV，处理时间：1小时
高通量冷却系统~自动冷却并返回室温~
从冷却到恢复到室温可以自动完成。
另外，为了维持冷却停留时间和样品冷却温度，从设备侧供给液氮
您可以对水箱周围的区域进行真空吸尘。
可在-120°C下处理8小时。
由于通过插入和移除冷却导体来控制冷却温度，因此可以抑制液氮的消耗。
当罐中有液氮时可以更换样品。
规格/选项
请参阅产品目录。
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