天游线路检测中心半导体材料开发和评估的尖端质谱技术 - 从光刻胶聚合物的成分和结构分析到清洁溶液中的杂质检查 -

发布日期：2026/05/12

在日益小型化的半导体制造工艺中，材料的微小差异可能会对性能和良率产生很大影响。在本次网络研讨会中，我们将介绍使用质谱法对光刻胶聚合物进行成分和结构分析以及对清洁溶液中所含微量杂质进行分析的示例。我们还将解释使用Kendrick质量缺陷（KMD）分析轻松实现高级分析的分析流程，该Kendrick质量缺陷（KMD）分析可可视化光谱解释和使用机器学习的AI结构分析。

本次研讨会将在线举行。只要您可以连接到网络，您不仅可以通过计算机参与，还可以通过智能手机或平板电脑参与。我们期待您的参与。

您可以从本次网络研讨会中学到什么

• 使用质谱法进行光刻胶聚合物的成分和结构分析

• 清洗液中痕量杂质高灵敏评价的分析方法

• 使用 KMD 分析和 AI 结构分析的高效分析流程

想要参与的客户

• 参与半导体材料开发和评估的人员

• 负责光刻胶和工艺化学品分析和质量控制的人员

• 那些对使用质谱提高有机材料分析的效率和复杂性感兴趣的人

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扬声器	高雄福留 天游线路检测中心有限公司 SI 业务部 MS 业务部 MS 应用组
活动日期	2026 年 7 月 10 日星期五 16:00 - 17:00
参与费	免费（按照先到先得的原则接受申请。请尽早申请。）
演示材料	讲座结束后填写调查问卷即可下载。
讲座录音	稍后录制讲座网络研讨会档案 发帖时电子邮件杂志和SNS，所以请注册/关注我们。
问答	讲座结束后将有时间进行问答。 如果您有任何疑问，请在报名表的预先提问部分填写，或在讲座当天使用 Zoom 上的问答功能。
查询	天游线路检测中心有限公司 需求促进总部 sales1[at]jeolcojp 请将[at]更改为@。

如何申请

请在下面申请。

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