天游线路检测中心 VACUUM2020 真空展览会在线
发布时间：2020/09/30
主办单位：日本真空工业协会
日本表面真空学会公益社团法人
日刊工业新闻社
我们将在 VACUUM2020 真空在线展览会上展示适合形成高性能光学薄膜的电子枪、电源和等离子体源。
我们期待您的光临。
请注意，进入在线场地需要注册，因此请注册。
预注册将确保活动当天顺利入场。
期间/地点
- 期间：
2020 年 10 月 14 日星期三 - 2020 年 11 月 13 日星期五 - 地点：
VACUUM2020真空展会线上
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展览内容
轰击沉积源 BS-60610BDS
这是一种采用电子束轰击间接加热方法的真空蒸发源。
适合低损伤、低缺陷、低吸收、厚膜、高速率成膜。
继承了前代型号（BS-60310BDS）的特点，实现了更大的内胆容量和更高的速率。
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轰击沉积源 BS-60310BDS
这是一种电子束间接加热蒸发源，专为低损伤、低缺陷和低熔点材料蒸发应用而开发。
与传统电子枪相比，X射线和反射电子对基板的影响显着降低。
适用于有机EL电极膜的蒸镀。
通过采用电子束间接加热方法，抑制了蒸发材料的快速升温，因此与传统电子枪相比，显着抑制了飞溅的产生，使其适合低缺陷MgF2光学薄膜和防油防水薄膜的蒸镀。
旋转式沉积材料交换机构允许多层沉积和厚膜沉积。
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电子枪BS-60250DEM
专为高速金属沉积而开发的新型电子枪。
支持最大输出16kW（10kV-16A），实现金属薄膜的高速沉积。
φ标配支持 50mm 坩埚，可选φ还可容纳 70mm 坩埚。
改进的扫描性能实现了均匀的蒸发表面，并且还与氧化物蒸发兼容。
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电子枪 BS-60070DEBS / BS-60060DEBS
对氧化物沉积有效。可实现稳定的成膜。
JEBG-102UH0 电子枪和形状兼容。
灯丝寿命现在比以前更长。
易于清洁的形状，易于维护。
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等离子源 BS-80020CPPS
用于低温工艺的等离子体源。
适用于塑料和有机薄膜上的成膜（等离子体辅助气相沉积）和表面改性应用。
即使不加热也可以形成具有良好粘合性和高填充密度的薄膜。
在基板附近添加离子辅助效果，并且根据沉积材料，可以预期ARE（活化反应沉积）效果。
也可以改装到现有的真空室。
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日本电子有限公司
工业设备销售部太田
电话：03-6262-3570
传真：03-6262-3577
