天游ty8检测中心束光刻设备支持的半导体微细加工-“JBX”系列从研发到量产[SEMICON Japan 2025展会报告_第3部分]

支持半导体微加工的天游ty8检测中心束光刻设备| JBX系列

本次 SEMICON Japan 的结构是并排推出多个 JBX 系列阵容，作为可根据工艺和目的使用的光刻设备阵容，从研发和原型设计到小规模生产，甚至掩模光刻。

涵盖从开发到生产的一切的提案

支持研究、开发和原型制作的SB机器｜JBX-8100FS

JBX-8100FS 是一种使用点束法 (SB) 进行研发和原型制作的天游ty8检测中心束光刻系统。
点束法是一种在用窄聚焦天游ty8检测中心束扫描的同时进行绘制的方法，其特征是可以以高自由度形成图案。因为可以灵活地进行设计变更和条件调整，适合您想要通过高速试错进行验证的研发应用。

我们可以通过在晶圆上直接写入来处理从小型样品到最大 200 毫米晶圆的一切无需制作掩模即可进行小批量生产 (DBF) 的能力也引起了参观者的注意。

佐藤对天游ty8检测中心束光刻系统的解释如下。
``不仅仅是绘图精度长期绘图的稳定性和再现性很多客户都很重视这一点，我们也经常收到关于这一点的评价。”
在会场，与其他公司机器相比的高稳定性被列为评价点。

另外，就最近的趋势而言，佐藤是
“我们收到了更多有关人工智能和数据中心应用的询问，”他说。 “在设计变更周期很快的领域，无需创建掩模即可直接绘制所需数量的能力作为加速从原型设计到启动过程的一种手段而受到关注。”（同上）

300 mm 兼容 SB 机器，着眼于先进工艺 | JBX-A9

JBX-A9是基于JBX-8100FS的点光束写入设备，进一步提高了写入精度和吞吐量。
此外，支持最大 300 毫米晶圆也引起了参观者的注意。

还有研发应用也需要自动化据介绍，通过从晶圆设置到运输的全部自动化，即使在研发现场也可以稳定运行。

“即使是为了研究目的，”评估条件的再现性和数据的一致性极其重要我们创造了一个环境，可以通过自动传输抑制人员之间的差异，并稳定地获得高度可靠的评估数据。”（佐藤）

除了这些点之外，还提到了它具有高绘图精度，并且兼容纳米压印技术领域。

JBX-A9是一款支持300毫米晶圆、通过自动传送提高可操作性、具有高绘图精度的设备，已被证明可用于专注于尖端工艺的研发环境。

负责口罩量产的VSB机｜JBX-3050MV/S

JBX-3050MV/S 是一款用于 6 英寸掩模生产的天游ty8检测中心束光刻系统，采用可变形状光束系统 (VSB)。

VSB方法是一种通过组合两个方形狭缝形成任意矩形光束并高速扫描该光束的绘制方法。介绍了可以重复性高地重复绘制相同的图案，并且可以实现高产量，并解释说这是一种适合掩模批量生产的方法。

用于研发和原型制作的SB机器灵活绘图，而 JBX-3050MV/S稳定地绘制相同的图案通过这样做，我们在支持大规模生产过程中发挥了作用。

展览清楚地表明，JBX 系列涵盖了从研发到批量生产的一切，根据应用和工艺使用 SB 和 VSB 机器。