天游线路检测中心 电子束光刻设备支持的半导体微细加工-“JBX”系列从研发到量产[SEMICON Japan 2025展会报告_第3部分]

支持半导体微加工的电子束光刻设备| JBX系列

今回のSEMICON日本では、研究开発・试作から少量生产、さらにはママク描画まで、工程や目的に応じて使い分けられる描画装置ラインプとして、复数のJBXshirizuo和べて绍介する构成が取られていました。

涵盖从开发到生产的一切的提案

支持研究、开发和原型制作的SB机器｜JBX-8100FS

JBX-8100FS 是一种使用点束法 (SB) 进行研发和原型制作的电子束光刻系统。
点束法是一边扫描窄聚焦电子束一边进行描绘的方法，其特征在于能够以高自由度形成图案。因为可以灵活地进行设计变更和条件调整，适合您想要通过高速试错进行验证的研发应用。

我们可以通过在晶圆上直接写入来处理从小型样品到最大 200 毫米晶圆的一切无需制作掩模即可进行小批量生产（DBF）的能力也引起了参观者的注意。

佐藤对电子束光刻系统的解释如下。
``不仅仅是绘图精度长期绘图的稳定性和再现性很多客户都很重视这一点，我们也经常收到关于这一点的评价。”
在会场，与其他公司机器相比的高稳定性被列为评价点。

另外，就最近的趋势而言，佐藤是
“我们收到了更多有关人工智能和数据中心应用的询问，”他说。 「设计変更のサイクルが早い分野では、マsuku作成を介さずに必要な数だけを直接描画」できる点が、试作から立ち上げまでを加速する手段として注目されています。」(同)

300 mm 兼容 SB 机器，着眼于先进工艺 | JBX-A9

JBX-A9是基于JBX-8100FS的点光束写入设备，具有更高的写入精度和吞吐量。
此外，支持最大 300 毫米晶圆也引起了参观者的注意。

还有研发应用也需要自动化不断增加的背景下据介绍，通过从晶圆设置到运输的全部自动化，即使在研发现场也可以稳定运行。

“即使是为了研究目的，”评估条件的再现性和数据的一致性极其重要我们创造了一个环境，可以通过自动运输减少人员之间的差异，并稳定地获得高度可靠的评估数据。”（佐藤）

除了这些点之外，还提到了它具有高绘图精度，并且兼容纳米压印技术领域。

JBX-A9は、300 mmウエハ対応や自动搬送による运用性の向上と、高い描画精度を両立した装置として、先端プロセを见据えた研究开発环境での活用が示されていました。

负责口罩量产的VSB机｜JBX-3050MV/S

JBX-3050MV/S 是一款用于 6 英寸掩模生产的电子束光刻系统，采用可变形状光束系统 (VSB)。

VSB方法是一种通过组合两个方形狭缝形成任意矩形光束并高速扫描该光束的绘制方法。介绍了可以重复性高地重复绘制相同的图案，并且可以实现高产量，并解释说这是一种适合掩模批量生产的方法。

用于研发和原型制作的SB机器灵活绘图，而 JBX-3050MV/S稳定地绘制相同的图案通过这样做，我们在支持大规模生产过程中发挥了作用。

展览清楚地表明，JBX 系列涵盖了从研发到批量生产的一切，根据应用和工艺使用 SB 和 VSB 机器。