天游线路检测中心 像差校正 STEM 中通过 EELS 和 XEDS 进行原子分辨率元素测绘
JEOLnews 第 45 卷,第 1 期,2010 年 M。渡边†、M菅野†† 和 E奥西††† 材料科学与工程系/中心先进材料和纳米技术,理海大学†† JEOL 有限公司 EM 业务部
像差校正方面的最新改进不仅在高分辨率成像方面带来了巨大优势,而且在扫描透射电子显微镜 (STEM) 中的电子能量损失光谱 (EELS) 和 X 射线能量色散光谱 (XEDS) 的高分辨率分析方面也带来了巨大优势。一旦优化了入射探针的形成,就可以通过获取足够的信号进行适当的化学分析,同时保持精细的探针尺寸,从而进行原子分辨率分析。此外,更复杂的数据采集和分析方法,例如光谱成像 (SI) 和多元统计分析 (MSA),对于原子分辨率化学分析至关重要。事实上,由于采用先进的采集和分析技术的像差校正组合仪器的空间分辨率和分析灵敏度都得到了极大的提高,因此可以获得材料的原子分辨率的化学图像。在本手稿中,回顾了像差校正仪器中通过 EELS 和 XEDS 进行原子分辨率化学分析的事件探针形成、数据采集和数据分析。然后,通过最近开发的 JEM-ARM200F 像差校正显微镜获得的原子分辨率化学图像的几种应用被证明可以解决材料化学分析的未来趋势。
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