天游线路检测中心 陶瓷层压薄膜的原子级分析
使用JEM-ARM200F与高灵敏度EDS探测器 JEOL 科学测量仪器服务部服务计划推进总部研发推进部
铁电体广泛应用于执行器和存储器等电子设备中。使用铁电材料的存储器需要速度更快、功耗更低、更薄并且容量更大。由于它们是通过将铁电材料夹在电极之间而形成的，因此阐明铁电层的结构（包括与电极的界面）对于提高性能非常重要。这次，我们将报告使用配备有球面像差校正器的透射电子显微镜在原子水平上对堆叠在用作下电极的钙钛矿结构陶瓷层上的铁电层进行堆叠状态和元素分析的情况。
层压膜结构 |
层状结构 |
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EDS 图分析
EDS 绘图可以二维了解特定元素的存在或不存在或浓度。对于耐电子束的样品，还可以获得原子水平的EDS图谱。
层压膜变形| LAADF 图像
众所周知，在STEM-LAADF方法中，ADF探测器的电子束捕获区域比HAADF方法位于更低角度侧，导致应变区域的对比度更高。
示例：钙钛矿结构陶瓷层压薄膜的 HAADF 和 LAADF 图像比较
层压膜的晶格间距
通过使用傅里叶变换对晶格图像进行分析，可以检测晶格间距的变化。
示例：钙钛矿结构陶瓷层压薄膜的晶格间距
*晶格间距差异基于基板侧SRO
⇒推测面内方向受到基板的限制而发生外延生长，各晶体的面外晶格常数发生变化。
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