为了提高尖端器件制造工厂的良率，JWS-3000对我们用于审查SEM的半内透镜进行了优化，在1 kV加速电压下实现了3 nm的超高分辨率
功能
随着半导体器件变得越来越小，采用各种材料的最先进器件制造工厂的产量不断提高，JWS-3000 已针对使用我们的半内透镜进行审查 SEM 进行了优化，在 1 kV 的加速电压下实现了 3 nm 的超高分辨率。此外，为了防止材料损坏，我们采用了即使在300V以下的低加速电压下也能获得高质量SEM图像的电子光学系统。
此外，为了获得高质量的SEM图像，我们实施了适用于广泛应用的充电对策、高速自动对焦功能和环境措施（磁场、振动、声音）。它配备了各种功能，例如自动识别高质量缺陷和异物并获取SEM图像的自动缺陷审查（ADR）、基于SEM图像的自动缺陷分类（ADC）以及自动分析识别的异物和缺陷的自动化选项。
规格/选项
| 分辨率 | 3nm（加速电压：1kV时）、5nm（300V时） |
|---|---|
| 加速电压 | 100V～200V |
| 观察倍率 | ×100～×500,000 |
| 舞台 | X-Y：300mm，T：45°，R：360° |
| 样本大小 | 300mm（也可提供200mm两用机） |
| ADR（死就死） | 750dph（JEOL 标准样品） |
