功能
兼容 150mm 晶圆
涂抗蚀剂前清洁材料表面
去除材料表面的有机物
提高材料和抗蚀剂之间的粘附力（*可能并非在所有情况下都提高）
由于处于真空中，所以产生的臭氧量最少臭氧产生量：00012mg/min设备周围001ppm
准分子紫外线清洁剂利用氙 (Xe) 激发二聚体（准分子）发出的波长为 172 nm 的紫外线来去除晶圆表面有机化合物造成的污渍。
去除抗蚀剂浮渣
通过在蚀刻前进行清洁，去除残留在晶片表面上的抗蚀剂残留物。
清洁前
正性抗蚀剂400nm厚度
清洁后
照射20分钟
准分子紫外线清洁剂如何进行样品清洁/亲水化处理？点击此处
规格/选项
| 照射紫外线 | 波长172纳米 | ||
|---|---|---|---|
| 最大样本量 | 1524毫米（宽）×1542毫米（深）×60毫米（高） | ||
| 最大样品质量 | 1 公斤 | ||
| 照射时间设置 | 10 秒到 99 分钟 | ||
| 真空泵 | 隔膜式干式真空泵 | ||
| 安装条件 | 电源 | 单相90-110V，50/60Hz，500VA | |
| 尺寸/质量（不包括电缆和真空管道） | 正文 | 43厘米（宽）x 44厘米（深）x 31厘米（高），约22公斤 | |
| 真空泵 | 17厘米（宽）x 33厘米（深）x 22厘米（高），约8公斤 | ||
| 室温 | 15 ～ 30 ℃ | ||
| 湿度 | 60% (RH) 或更低（无凝结） | ||
| 定期更换部件（累计照射1000小时后更换） | 紫外灯、真空计、O型圈等 | ||
*外观和规格如有更改，恕不另行通知。
