天游线路检测中心 JBX-8100FS系列
电子束绘图装置

点式电子束光刻系统JBX-8100FS是一种与传统设备相比，通过最大限度地减少操作和光刻过程中的浪费时间来提高产量，并实现节省空间和低功耗的设备。

功能

节省空间

标准安装面积为49m（宽）x 37m（深）x 26m（高），比以前的型号更节省空间。

低功耗

正常功耗约为3kVA，比之前的型号低约1/3。

高吞吐量

拥有高分辨率绘图模式和高速绘图模式两种模式，兼容从超精细加工到中小型生产。它还减少了绘图过程中不必要的时间，并实现了最大扫描速度125MHz（世界最高级别）的高速扫描，比传统型号快125至25倍。

版本

JBX-8100FS 提供三个版本：G1（入门型号）、G2（全选项型号）和 G3（200 kV 型号）。
安装后可以向 G1 型号添加选项。

新功能

该设备可以配备光学显微镜（可选），从而可以在不暴露抗蚀剂的情况下检查材料上的图案。此外，标配信号塔，以便您可以在可视范围内检查设备的运行状态。

激光定位分辨率

标准情况下，载物台位置以 06 nm 增量进行测量和控制，但也可以使用 015 nm 增量（可选）。

设备控制

配备Linux®，图形用户界面使系统即使对于初学者也易于使用。此外，数据准备程序与 Linux® 和 Windows® 兼容。

200 kV 型号现已上市！

迈向最大加速电压200kV的世界

JBX-8100FS 是一款点束光刻系统，专为适应各种高速、高精度应用而开发。
可升级平台可用于广泛的应用，从尖端纳米结构制造到化合物半导体器件制造。

对厚膜抗蚀剂的 3D 加工有效

下图显示了加速电压为100 kV和200 kV时的加工对比数据。
数据表明，当在200 kV的加速电压下处理时，具有厚抗蚀剂膜的样品的锥度减小，并且获得了更多的垂直度。

加速电压100 kV和200 kV的比较（样品：10 μm厚膜抗蚀剂）

加速电压100kV
3,000μC/cm2

加速电压200kV
5,000μC/cm2

抗蚀剂：PMMA
厚度：10um
视场大小：500um
图案宽度：2um
基材：硅

脚注：

Linux® 是 Linus Torvalds 在日本和其他国家/地区的注册商标或商标。
Windows 是 Microsoft Corporation 在美国和其他国家/地区的注册商标或商标。

规格/选项

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JBX-8100FS系列电子束光刻系统

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与 JBX-8100FS 相关的应用

JEOL 新闻第 50 卷

电子束光刻系统JBX-8100FS的开发

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