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这是一种预处理装置，在使用离子铣削或化学蚀刻处理电子显微镜样品时，可机械地减薄初始样品盘。该设备精确抛光样品盘上的半球形凹陷，可以快速生产5-10μm的薄膜，同时保留厚边缘。
功能
紧凑的设计
快速 TEM 样品制备
提供更宽的电子传输表面
创建一个具有厚边缘的强样本
使用样本定位显微镜轻松实现 X、Y 对准。
轻松制备用于俄歇分析和深度剖析的样品。
规格/选项
| 样品抛光轮直径 | 10,15,20mmφ |
|---|---|
| 样品抛光轮转速 | 0～600rpm无级变速 |
| 样品抛光重量 | 0～40g连续可调 |
| 样品台旋转速度 | 10rpm |
| 初始样品厚度 | 200μm以下 |
| 自动停止灵敏度 | 1μm |
| 样品定位机构 | 80倍光学显微镜 |
| 所需电源 | AC100V 50/60Hz 1A |
| 尺寸 | 300（宽）x 200（深）x 120mm（高） |
| 重量 | 大约。 6公斤 |
| 装备专属区 | 60厘米2 |
配置
| 凹坑研磨机 | 1 个公式 |
|---|---|
| 用于样品定位的光学显微镜 | 1 个公式 |
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