ISPP-1000是为了抛光相对较小的样品而开发的，擅长抛光用于包括电子显微镜在内的各种类型分析的样品。
功能
CP样品的预处理抛光
我们准备了特殊的样品架，让您可以直接连接Cross Section Polisher™和离子铣削的样品架，轻松创建直角抛光表面！
只有通过ISPP才能得到EBSD的晶体取向面
抛光时间、抛光压力、速度、摆动运动设置、独特的样品保持和抛光量调节机构使抛光对组织结构的损伤较小。此外，通过使用可选的重量消除器，可以进一步减少样品上的负载，并将损坏降至最低。
轻松实现高倍对角抛光
使用 ISPP，通过将可选的万向节调节器连接到样品支架，可以通过两个微型单位在每个方向和整个圆周上调节最多 6 度的倾斜角度。微分辨率相当于每个内存 002 度。即使是小倾角也可以高精度设置以获得高放大倍率。
半导体横截面样品的制备既快速又美观
我们准备了一个样品支架，其结构允许您直接夹紧设备。这消除了嵌入处理时间的需要，并显着减少了分析 TAT。
规格/选项
| 尺寸 | 外壳部分(宽)205毫米×(深)225毫米×(高)155毫米10公斤 |
|---|---|
| 安装空间 | (宽)335mm×(深)260mm×(高)330mm不包括突出物 |
| 抛光机 | φ110mm |
| 电源 | AC100～240V50/60Hz65W（最大） |
系统配置
| 本体套装 | 磨床机身 | 倒置光学显微镜(10x 物镜/20x 目镜)废物箱抛光板×1交流适配器 |
|---|---|---|
| 支架套装 | 金属材料用 | 摆臂，配重组平面支架、标准支架 |
| 用于半导体和电子元件 | 摆臂，重量组IC支架、标准支架*1 | |
| 选项 | 物镜 | 4x、20x |
| 目镜 | 16x、10x*2 | |
| 显微镜摄像头单元 | PC USB 输出类型 | |
| 粗动和精细运动千分尺 | 最小分辨率1μm | |
| 抛光机 | SUS440C：HRC55 |
消耗品
| 磨料 | 防水纸类型 | 600#、800#、1200#、1500# |
|---|---|---|
| 影片类型 | DAO SC 1μm、3μm、5μm、9μm | |
| 浅黄色类型 | 麂皮垫、尼龙垫（梭织布） | |
| 金刚石轮 | 电镀/400#、800#树脂/600#、800# | |
| 金刚石浆料 | 05μm、1μm、3μm（喷雾型） | |
| 胶体二氧化硅 | 各种 |
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