功能
精密蚀刻系统PECS™Ⅱ是一款台式宽束氩铣削工具，不仅可以加工样品，还可以进行离子束溅射镀膜。
此处理和涂层过程可以在真空下对同一样品进行。
至少 100 V 的低能量处理不仅对于低加速电压下的观察有效，而且对于表面条件影响结果的 EBSD 和 CL 等分析也有效。
通过使用液氮冷却样品，可以抑制加工过程中的伪影。
规格/选项
| 离子源 | |
|---|---|
| 离子枪 | 两把带有稀土磁铁的潘宁离子枪 |
| 铣削角度 | 0~18°，每枪单独可调 |
| 离子束能量 | 100 eV ~80 keV |
| 离子电流密度 | 10毫安/厘米2峰值 |
| 铣削速度 | 90 μm/h：硅 |
| 光束直径 | 可使用气体流量控制器或放电电压进行调节 |
| 样品台 | |
| 样本大小 | 32 毫米深 × 15 毫米高（最大） |
| 示例附件 | 横截面为Ilion™II（Gatan制造）专利刀片适用于 SEM 平台的多个支架 |
| 旋转 | 1 至 6 rpm 变化 |
| 光束调制 | 每个条件均可设置单或双 |
| 高分辨率CCD观察 | 配备 PC 和 DigitalMicrograph® 软件以及图像存储（可选）的数码变焦显微镜 |
| 真空系统 | |
| 干泵系统 | 涡轮分子泵80 L/s2级隔膜泵 |
| 压力 | 基础真空度：5×10-6托工作真空度：8×10-5托 |
| 真空计 | 冷阴极真空计（主室）半导体压力表（背压泵） |
| 气闸示例 | Whisperlok® 技术，样品交换时间 <1 分钟 |
| 用户界面 | |
| 10英寸触摸屏（彩色） | 完全控制所有参数和配方操作，操作简单 |
| 安装条件 | |
| 尺寸 | 495 毫米（宽）× 575 毫米（深）× 615 毫米（高） |
| 重量 | 45 公斤 |
| 功耗 | 使用枪时200 W，不使用枪时100 W |
| 电源要求 | 交流100-240V，50/60Hz |
| 天然气 | 氩气 25 psi(172bar) |
“DigitalMicrograph®”和“Whisperlok®”是Gatan（美国）的产品。
更多信息
