功能
AFM 的特点
AFM 是一种高分辨率显微镜,它超过了光的衍射极限,可以通过检测样品表面上的原子与尖端之间作用的力并使用 X、Y、Z 压电扫描仪扫描微观区域来获得三维图像。
不依赖于测量气氛,也不依赖于电导率或绝缘性,因此不需要样品预处理。除了大气之外,还可以在液体、气体以及温度和湿度控制下进行测量。它也是一种应用广泛的分析设备,可以在同一位置同时测量形状信息以及机械性能、电性能和化学信息。
每个设备的概述和特征
■NX10
摘要
Park NX10 以最高纳米级分辨率提供可靠的数据。从样品设置到成像、测量和分析,每个阶段都可以轻松操作。 NX10 使用户能够提高效率、建立更好的数据并专注于创新研究。
功能
停车 SmartScan™ 自动模式
SmartScan™ 自动模式是通过 Park Systems 的专有技术实现的。该软件是智能的,可以完成成像所需的所有工作,自动确定和确定最佳图像质量和扫描速度。通过实施该软件,您可以节省时间和成本,并期待更好的研究结果。
园区系统串扰消除技术
Park NX10 以最高纳米级分辨率捕获可靠、准确的数据。它具有世界上唯一真正的非接触模式 AFM,可扫描样品表面而不损坏样品,同时延长尖端寿命,以及可实现高精度和分辨率的弯曲引导独立 X/Y 和 Z 扫描仪。
具有低噪声 Z 探测器的精确 AFM 形貌
Z探测器是新型NX系列AFM的核心关键技术。 Z 探测器是 Park Systems 推出的应变计传感器。 Z探测器噪声为02 Å,为业界最高水平。该噪声水平足够低,足以检测地形信号。将新型 NX 系列 AFM 与上一代型号 XE 进行比较,您可以看到差异。 Z 探测器中的高噪声妨碍了对蓝宝石基板等原子台阶的清晰观察。 Park NX AFM 的 Z 探测器发出的高度信号与基于 Z 电压的地形一样低噪声。
■NX20
摘要
NX20 配备自动化 AFM 计量,可提供纳米级的先进测量和分析功能,包括热和纳米机械成像功能、缺陷审查以及电磁故障分析。 AFM 能够测量粗糙度、高度和深度,非常适合处理各种大型样品。
功能
更强大的故障分析解决方案
Park NX20 配备独特的功能,可以揭示设备故障背后的原因并开发更具创意的解决方案。其无与伦比的准确性提供高分辨率数据,让您可以专注于您的工作。真正的非接触式™ 模式扫描还可以减少尖端磨损并更长时间地保持尖端形状,从而节省您的时间和金钱。
初学者也能轻松使用
Park NX20 拥有业界最人性化的设计和自动化界面,为您节省使用和培训操作及其工具的时间和精力。这使您能够专注于解决更大的问题,并为您的客户提供清晰、及时的故障分析。
专为大型晶圆研究而设计
NX20 旨在以最佳方式测量大样本。通过低噪声 AFM 测量可以分析最大 300 mm 晶圆的整个区域。这为自动化测量开辟了全新的可能性,使用户能够更简单、更快速、更高精度地执行任务。
■FX40
摘要
多个样本图像现在在最高分辨率下比以往任何时候都更加清晰。 FX40 配备人工智能 (AI) 和机器人技术来处理自动化流程和机器学习 (ML),以前所未有的速度和精度推动科学发现和进步。新添加的摄像头传感器自动与激光器和光电探测器、预警系统和故障保险同步,以提取和存储每一步的信息。所有用户都可以沉浸在研究中,无需任何复杂的培训。
功能
自动探头交换
全自动探头更换让您可以轻松、安全地更换旧探头。通过利用包含八个探针和磁性控制机构的盒,可以在无需用户干预的情况下连接探针。
自动激光对准
通过将激光器放置在悬臂上的适当位置并垂直和横向调整和优化 PSPD(光电探测器)的位置来优化激光器。只需单击一下即可移动 X、Y 和 Z 轴,并输出清晰、无失真的图像。
安全装置
探针和 AFM 扫描仪受到软件互锁和硬件开关组合的保护,以防止探针和样品崩溃。算法编程确保 Z 台不会降低到探针与样品表面碰撞的位置,从而保证样品和 AFM 的安全。
规格/选项
| 舞台 | NX10 | NX20 | FX40 | |
| 样品安装 | 100毫米×100毫米×20毫米 | 150毫米晶圆(可选200毫米、300毫米 | 20毫米×20毫米×20毫米,4件 | |
| XY 平台 | 20毫米×20毫米 | 150毫米×150毫米(可选200毫米×200毫米,300毫米×300毫米) | 105毫米×40毫米 | |
| Z 阶段 | 15 毫米 | 25 毫米 | 22 毫米 | |
| 聚焦阶段 | 15 毫米 | 15毫米 | 25 毫米 | |
| 扫描仪 | XY扫描仪结构 | 具有闭环控制的单模块弯曲 XY 扫描仪 | 具有双伺服闭环控制的单模块弯曲 XY 扫描仪 | 单模块并联运动二维弯曲扫描仪 |
| 练习场 | 50微米×50微米(选项 100 µm × 100 µm) | 100微米×100微米 | 100微米×100微米 | |
| Z 扫描仪结构 | 弯曲引导高力扫描仪 | 弯曲引导高力扫描仪 | 弯曲引导高力扫描仪 | |
| 练习场 | 15 µm(选项 30 µm) | 15 µm(选项 30 µm) | 15 µm(选项 30 µm) | |
| 电子 | ADC | 18 通道,24 位 | 18 通道,24 位 | 18 通道,24 位 |
| DAC | 17 通道,20 位 | 17 通道,20 位 | 24 通道,20 位 | |
| 数字 Q 控制 | 是 | 是 | 是 | |
| 锁相放大器 | 4 频道 | 4 频道 | 8 频道 | |
| 通讯 | 100 Mbps | 100 Mbps | 1 Gbps | |
| 支持模式 | 地形 | 真正的非接触模式™、轻敲模式、接触模式 | 真正的非接触模式™、轻敲模式、接触模式 | 真正的非接触模式™、轻敲模式、接触模式 |
| 磁性 | 磁力显微镜(MFM)、磁场可调磁力显微镜(TM-MFM) | 磁力显微镜(MFM)、磁场可调磁力显微镜(TM-MFM) | 磁力显微镜(MFM)、磁场可调磁力显微镜(TM-MFM) | |
| 介电/压电特性 | 压电力显微镜(PFM)、压电光谱、高压电力显微镜 | 压电力显微镜(PFM)、压电光谱、高压电力显微镜 | 压电力显微镜(PFM)、压电光谱、高压电力显微镜 | |
| 电气特性 | 导电原子力显微镜 (C-AFM)、I/V 光谱、开尔文探针显微镜 (KPFM)、高压开尔文探针显微镜、扫描电容显微镜 (SCM)、扫描扩散电阻显微镜 (SSRM)、扫描隧道显微镜 (STM)、扫描隧道光谱 (STS)、光电流映射 (PCM)、静电力显微镜 (EFM)、动态接触静电力显微镜 (DC-EFM)、I/D 光谱 | 导电原子力显微镜 (C-AFM)、I/V 光谱、开尔文探针显微镜 (KPFM)、高压开尔文探针显微镜、扫描电容显微镜 (SCM)、扫描扩散电阻显微镜 (SSRM)、扫描隧道显微镜 (STM)、扫描隧道光谱 (STS)、光电流映射 (PCM)、静电力显微镜 (EFM)、动态接触静电力显微镜 (DC-EFM)、I/D 光谱 | 导电 AFM (C-AFM)、I/V 光谱、开尔文探针显微镜 (KPFM)、高压开尔文探针显微镜、扫描电容显微镜 (SCM)、扫描扩散电阻显微镜 (SSRM)、扫描隧道显微镜 (STM)、扫描隧道光谱 (STS)、光电流映射 (PCM)、静电力显微镜 (EFM)、动态接触静电力显微镜 (DC-EFM)、I/D 光谱 | |
| 机械性能 | PinPoint™ 纳米机械模式、力调制显微镜 (FMM)、纳米压痕、纳米光刻、高压纳米光刻、纳米操纵、水平力显微镜 (LFM)、F/D 光谱、力体积成像、弹簧常数校准 | PinPoint™ 纳米力学模式、力调制显微镜 (FMM)、纳米压痕、纳米光刻、高压纳米光刻、纳米操纵、水平力显微镜 (LFM)、F/D 光谱、力体积成像、弹簧常数校准 | PinPoint™ 纳米机械模式、力调制显微镜 (FMM)、纳米压痕、纳米光刻、高压纳米光刻、纳米操纵、水平力显微镜 (LFM)、F/D 光谱、力体积成像、弹簧常数校准 | |
| 化学性质 | 化学力显微镜(CFM)、电化学显微镜(EC-AFM) | 化学力显微镜 (CFM)、电化学显微镜 (EC-AFM) | ||
| 热特性 | 扫描热显微镜 (SThM) | 扫描热显微镜 (SThM) | 扫描热显微镜 (SThM) |
图库
Si (111) 7x7 晶体上碲化锗生长 MBE 的三角畴
通过边带 KPFM 获得的铝 TX630 合金的表面电势图像
CVD 生长的二硫化钨二维晶体的功函数图像
MLG-hBN(六方氮化硼上的单层石墨烯)接触共振模式的压电响应图像。 15 nm 间距蜂窝超晶格图像
通过精确纳米力学性能测量来测量聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯 (PS-PMMA) 嵌段共聚物的弹性模量
DNA 质粒的形状图像,液体中的测量
有机硅烷自组装纳米图案
锂离子电池正极。活性材料、粘合剂和导电助剂的铺展阻力图像
ER316L不锈钢磁力图
CMP工艺后的铜图案
基于侧壁测量的晶圆边缘高度图像
覆盖半导体器件的当前信息,钨塞形状图像
