新配备了高速和精加工，我们实现了高产量和高横截面质量。此外，对于易受热损坏的样品，间歇模式是标准配置。它已经发展到适应各种材料加工。
功能
截面抛光机 (CP) 已经发展。
新开发的离子源实现了高速处理。
通过精加工和间歇模式减少样品损坏。
快速启动功能节省时间。
标配监控摄像头，让您可以实时检查处理状态。
抗静电涂层功能（可选）
IB-19510CP 的特点
★配备新开发的高速离子源。
实现500μm/h（8KV/2小时平均值）。
8KV，2小时处理结果（样品：Si）
★可以选择整理。
通过在高速加工后设置精加工
减少加工截面表层的离子损伤。
★间歇加工损伤对策。
标配间歇加工模式，以减少对样品的热损伤。
可以以 1 秒增量设置间歇。
（样品：锡铅共晶）
★处理监控功能
使用 CCD 摄像头实时显示横截面加工状态
您可以确认。您还可以更改放大倍数。
★抗静电涂层功能（可选）
具有良好颗粒度的薄碳涂层是可能的。
非常适合非导电样品的EBSD分析、EDS元素分析等。
★样品旋转支架（可选）
用于在旋转样品的同时进行离子束处理的支架。
可以进行横截面和平面加工。
多孔材料、粉末、纤维等可能有加工条纹
对应于样本。
非常适合精加工以消除加工变形。
SEM 应用示例
通过在处理样品的同时旋转样品，在制备具有明显离子处理条纹的样品（例如多孔材料和粉末）的横截面时，样品旋转支架可以获得更好的结果。
申请
与 IB-19510CP 相关的申请
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