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天游线路检测中心 [已售完] IB-09020CP 截面样品制备装置

已售完

IB-09020CP 横截面样品制备装置

此产品不再可用。

如果您想了解更多关于您所需产品的最新信息或替代产品,请参阅下面的链接。感谢您对我们产品的持续惠顾。

除了IB-09010CP的功能外,还配备了用于横截面加工监控的CCD摄像头,让您可以实时检查加工状态。

功能

配备监控摄像头,可让您实时检查处理状态(×20至×100)。
配备自动启动功能,无需等待即可开始加工。加工从最佳真空水平开始。
8kV电源选项,快速处理速度为300 µm/h(硅基板当量,突出量:100 µm,2小时平均值)
触摸屏操作方便

IB-09020CP 功能

处理监控功能
可通过CCD变焦摄像头实时监控断面加工状态。
您可以使用触摸面板上的缩放按钮将其从 ×20 更改为 ×100。

标准配备用于检查加工位置的 CCD 相机 (x70)
您可以在易于阅读的屏幕上轻松调整加工位置。

触摸屏操作
加工条件通过易于读取的彩色液晶触摸屏进行设置。

提高处理速度(可选):8kV电源
通过将离子加速电压设置为8kV,可以提高加工速度。

样品:硅晶片(厚度约700μm)
突出屏蔽板100μm,加工2小时(加工速度为参考值)
样品旋转支架
用于在旋转样品的同时进行离子束处理的支架。
可以进行截面抛光/表面抛光。
横截面抛光:用于加工具有明显加工线的样品,例如多孔材料、粉末和纤维。
表面抛光:用于刮除镜面抛光变形层等精加工工序。

SEM 应用示例

通过在处理样品的同时旋转样品,在制备具有明显离子处理条纹的样品(例如多孔材料和粉末)的横截面时,样品旋转支架可以获得更好的结果。

规格/选项

离子加速电压 2 至 6kV(8kV:选项)
离子束直径 500μm(半宽)
铣削速度 100μm/h以上(6kV)、300μm/h以上(8kV)
最大可加载样本大小 20mm(宽)×10mm(长)×5mm(厚):选项
移动范围示例 X轴±10mm,Y轴±3mm
样本角度调整范围 ±5°
样品加工摆角 ±30°(专利号4557130)
如何操作 触摸屏
使用的气体 氩气(通过质量流量控制器控制流量)
压力测量 潘宁真空计
主排气系统 涡轮分子泵
尺寸/质量 机身:545毫米(宽)x 550毫米(深)x 420毫米(高),66公斤
旋转泵:150毫米(宽)x 427毫米(深)x 230毫米(高),16公斤
选项 8kV电源
样品旋转支架
高精度位置CCD相机
大样品架

安装条件

电源 单相100至120V±10%,50/60Hz,05至06kVA
接地端子 D类接地(100Ω以下)
氩气 工作压力:015±005MPa(10至20kg/cm²)
纯度999999%或更高(氩气、气瓶和调节器由客户提供)
金属管道连接口:JISB0203 RC1/8
室温 15 ~ 25℃
湿度 60% 或更少
  • 外观和规格如有更改,恕不另行通知。

申请

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