这是一种使用载气输送粉末的台式送粉装置(送粉器)。一台设备可以处理各种粒度和进料速率。支持速率控制的型号 (TP-99260FDR送粉装置) 也可用。
功能
功能 1:多功能性
粉末供给量可以通过供给板和搅拌叶片的转速来控制,但通过更换或添加可选项目,单个主机可以处理广泛的粒径(约01μm至数百μm)和供给量(约01至数百g/min)。※
我们可以处理各种粉末材料,包括氧化物、氮化物、碳化物、金属/合金、半导体、树脂和混合粉末。※
功能2:细颗粒供给
我们还可以供应通常难以供应的粒径为10μm或更小的细颗粒和流动性差的颗粒(有棱角的高内聚颗粒)。※
特点3:低利率供应
我们还可以在可能发生速率波动的情况下以低速率(1 克/分钟或更低等)处理少量供应。※
特征4:微量载气流速
即使以1L/min左右的小载气流量也能供给。※
特性5:减压供给
由于密封结构,可以在减压(100Pa等)下供给。※
功能6:分支供应
我们还可以处理 2 或 4 个方向的分支供应。※
我们不保证粉末供应。根据粉末类型、粒径、粒径分布、形状、堆积密度、水分含量、静电量等,可能无法实现供应稳定性和再现性。
供应原则
搅拌粉末的刀片(恒速旋转)将其定量送入供给板的凹槽中。控制搅拌桨和供给板的转速,将供给板内的粉末置于载气流中。连续通过连接管道我会提供的。




供粉示例
YSZ粉末(粒径约3μm)
进给速度:约。 12克/分钟
◆点击上面的方框开始播放电影
(约11秒)◆
铜粉(粒径约3μm)
进给速度:约。 17克/分钟
◆点击上面的方框开始播放电影
(约10秒)◆
Y2O3粉末(粒径约50-90μm)


交换可选物品以支持广泛的供应率
应用示例
等离子喷涂
火焰喷涂 (HVOF/HVAF)
冷喷
气溶胶沉积 (AD)
激光熔覆/增材制造(DED方法/激光金属沉积)
高频热等离子体处理(纳米颗粒合成/细颗粒球化)

规格/选项
基本规格
| 粉末输送装置 | 气体输送 |
|---|---|
| 定量供应方式 | 表表达式 |
| 适用载气种类 | 氩气、氮气、空气 |
| 使用的气压 | 最大 045 MPa / 通常指导值:03 MPa 或更低 |
| 气体流量 | 1〜20升/分钟※1 |
| 气体纯度 | 999% 或更多 |
所使用的气体流量并不一定意味着能够供给粉末的气体流量。根据粉末的类型、吸入口单元的规格以及要连接的粉末供给管的长度,可能无法供给20升/分钟。对于小于 1 L/min 的流量,我们可以提供,因此请联系我们。
供粉装置主体规格
| 料斗容量 | 大约。 500 mL(附加选项:1L 料斗、7L 料斗) |
|---|---|
| 质量 | 大约。 21公斤※2 |
| 尺寸 | (W) 约。约280毫米×(深)约211毫米×(高) 541 毫米※3 |
| 转速供给板 | 25~200转/分※4 |
| 搅拌桨转速 | 10~800转※4 |
| 转速比供应板:搅拌叶片 | 1:4※5 |
电缆不包含在重量中。
宽度包括左手柄和右手柄。该高度包括波登管。
每个转速以外的范围不在保修范围内。
该传动比齿轮箱安装在送粉器一侧。
控制器
| 操作 | 使用拨号盘进行数字操作 |
|---|---|
| 控制方法 | 电机恒速控制 |
| 电机额定输出 | 120W |
| 电源输入 | 单相AC100~120V 50/60Hz最大额定电流10A※6 |
| 地球 | D 型地球 |
典型工作电流为 8 A。
所需的可选配置
| 吸气口单元 | 直径1毫米/直径2毫米/直径3毫米/直径46毫米每种类型 |
|---|---|
| 补给板 | 宽度 1 毫米/宽度 3 毫米/宽度 5 毫米/宽度 10 毫米每种类型※7 |
我们还有特殊形状的供应板。
可选项目
| 送粉量监控装置 | 可以实时测量送粉速度。①电子天平,②电脑,③通讯电缆,④送粉量监控软件 |
|---|---|
| 突出法兰单元 | 推出已在供应板凹槽内固化的高粘性细颗粒。 |
| 变速箱 | 进料板:搅拌叶片的旋转比可以更改为1:1、1:2或1:3。 |
| 附加连接料斗 | 1升料斗,7升料斗 |
| 内部观察窗 | 您可以目视观察料斗内粉末的状态。 |
TP-99220RMS 送粉速率监控软件
由配备送粉装置的电子天平的测量值实时计算、监控和记录送粉速率和送粉量。
将供粉装置放置在电子天平上。
连接到安装了送粉速率监控软件的计算机。
电子天平输出的质量数据可以转换成送粉速率并在计算机上检查。


外部尺寸

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