Leica EM ACE600 是一款多功能高真空镀膜系统，可满足电子显微镜和分析的多样化需求。我们可以在极薄、晶粒良好的金属上形成碳涂层，以便通过 SEM 进行高分辨率观察，并抑制辐射热的影响，用于 SEM 和 EPMA 以及 TEM 中的 EDS/WDS 分析等应用。
功能
该设备可以通过触摸面板直观地操作，支持多用户环境，并允许共享涂层配方。
打开设备正面的玻璃门，设置样品，自动化过程使任何人都可以轻松地涂覆样品，并且具有良好的重现性。
设备内置无油高真空抽气系统（隔膜泵、涡轮分子泵），采用桌面节省空间设计。
石英晶体膜厚测量装置可实现精确的膜厚控制。
倾斜的涂层源和平台旋转可以在更大的区域上实现更均匀的涂层。
根据用途最多可以安装两个涂层源。
可选地，它可以升级为3轴电动载物台（旋转、倾斜、高度）、使用辉光放电的亲水装置以及与真空低温转移装置（Leica EM VCT500）相结合的低温涂层装置或冷冻断裂装置。
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通过安装可选的 EM VCT500（真空冷冻传输系统），您可以构建一个无污染冷冻 SEM 观察系统。
通过使用EM VCT500，EM ACE600不仅可以与SEM连接，还可以与配备VCT端口的EM FC7T、手套箱、EPMA、Tof-SIMS等连接。
规格/选项
基本规格
| 车身尺寸、重量 | (宽)300×(深)540×(高)640毫米，65公斤 |
|---|---|
| 电源 | 100/115/230 伏交流电，50/60 赫兹 |
| 样品台 | 标准：φ 104 mm（SEM 存根 25 个孔）选项：φ 104 mm 行星式（6×4 SEM 短截线）选项：φ60 mm，用于低角度旋转阴影和网格 |
| 涂层源角度 | 25° |
| 舞台倾斜 | 0 - 60° |
| 涂层厚度控制 | 01纳米单位 |
| 用户界面 | 集成触摸屏 |
| USB 端口 | 32 GB USB20 |
| 终极真空 | 2 × 10-6 毫巴或更少选项：当安装迈斯纳疏水阀时 7 × 10-7 毫巴或更少 |
| 真空泵 | 无油、4 级隔膜泵 + 67 l/s 涡轮分子泵 |
磁控溅射镀膜
| 目标 | 金、金钯、铂、铂钯、铬、钛、钨、铱、镍、铝、铜、银 |
|---|---|
| 工作距离 | 30 - 100 毫米 |
| 涂膜厚度 | 01 - 1,000 纳米 |
| 预飞溅 | 开/关 |
| 工艺气体 | 氩气 (>99999%, 05 bar) |
碳丝沉积
| 气相沉积源 | 碳丝 |
|---|---|
| 加热方式 | 脉冲/闪光 |
| 双线缠绕 | 可能 |
| 工作距离 | 30 - 100 毫米 |
| 沉积膜厚度 | 01 - 100 纳米 |
| 沉积速率 | 大约。 03 nm/s（脉冲沉积） |
碳棒沉积
| 汽化源 | 碳棒（25毫米，φ3毫米，245克/厘米3) |
|---|---|
| 工作距离 | 30 - 100 毫米 |
| 沉积膜厚 | 01 - 100 纳米 |
| 沉积速率 | 大约。 03纳米/秒 |
| 预热 | 开/关 |
电子束蒸发
| 汽化源 | 碳和铂碳 |
|---|---|
| 沉积角度 | 自动平台（可选）：1 - 90°冷冻台（可选）：34 - 90° |
| 工作距离 | 自动平台（可选）：164 -191 毫米冷冻台（可选）：164 - 175 毫米 |
| 沉积膜厚 | 01 - 100 纳米 |
| 沉积速率 | 碳：约。 03 nm/s，铂碳：约。 006纳米/秒 |
| 脱气 | 开/关 |
冷冻阶段（可选）
| 舞台温度 | -170°C 至 -80°C |
|---|---|
| 舞台倾斜角度 | ±27° |
| 冷冻蚀刻 | 蚀刻速率：约。 2 纳米/秒（2 × 10-6 毫巴，-100°C)保持时间：长达4小时 |
| 破冰刀 | 温度：-160°C切割厚度：1 - 100 µm |
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引进EM ACE600高真空镀膜设备（徕卡制造）
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